| начало | написать нам | в избранное | сделать стартовой |
ДЛЯ РАБОТЫ С БАЗАМИ ОГРАНИЧЕННОГО ДОСТУПА ТРЕБУЕТСЯ АВТОРИЗАЦИЯ
ДАННАЯ ВЕРСИЯ СИСТЕМЫ НЕ ПОДДЕРЖИВАЕТСЯ!!! БАЗЫ НЕ ОБНОВЛЯЮТСЯ!!! ПОЛЬЗУЙТЕСЬ НОВОЙ ВЕРСИЕЙ ПОИСКОВОЙ СИСТЕМЫ!!! >>>

Базы данных


Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС) - результаты поиска

Виды поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>KL=ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ<.>)
Общее количество найденных документов : 5
Показаны документы с 1 по 5
1.

    Мокеев, О. К.
    Химическая обработка и фотолитография в производстве полупроводниковых приборов и микросхем [Текст] : учебник / О. К. Мокеев. - 2-е изд., перераб. и доп. - М. : Высшая школа, 1985. - 312 с. : ил. ; 20см. - ISBN 4 : 0.60 р.
ГРНТИ
УДК
ББК 32.852

Рубрики: Электроника--Полупроводниковые приборы--Микроминиатюрные полупроводниковые приборы

Кл.слова (ненормированные):
фильтры -- фильтрация -- эмульсия -- адсорбция газов -- фотолитография -- ионное травление -- фотошаблоны
Аннотация: В книге рассмотрены технологические процессы химической обработки, фотолитогрфии и изготовления фотошаблонов в производстве полупроводниковых приборов и микросхем. Приведены основы теории этих процессов, методы и средства их контроля, оборудование. Во втором издании (1-е - в 1979 г.) описаны сухое травление рабочих материалов, а также методы электронно- и рентгенолитографии.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.
Найти похожие

2.

    Данилин, Б. С.
    Ионное травление микроструктур [Текст] : научное издание / Б. С. Данилин, В. Ю. Киреев. - М. : Советское радио, 1979. - 104 с. : ил. ; 20 см. - (Массовая библиотека инженера "Электроника"). - Библиогр.: с. 95. - 0.30 р.
ГРНТИ
УДК

Рубрики: Электроника--Микроэлектроника

Кл.слова (ненормированные):
ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ТРИОДНЫЕ СИСТЕМЫ -- ДИОДНЫЕ СИСТЕМЫ -- РАДИАЦИОННЫЕ ДЕФЕКТЫ -- ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ -- РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ УСТРОЙСТВА
Аннотация: Рассматривается применение ионного травления в производстве микроэлектронных приборов.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.


Доп. точки доступа:
Киреев, В. Ю.
Найти похожие

3.

    Сушенцов, Н. И.
    Основы технологии микроэлектроники [Текст] : лаб. практикум / Н. И. Сушенцов, В. Е. Филимонов ; Мар. гос. техн. ун-т (Йошкар-Ола). - 3-е изд., перераб. и доп. - Йошкар-Ола : МарГТУ, 2005. - 184 с. : ил. ; 20 см. - Библиогр.: с. 184 (9 назв.). - ISBN 5-8158-0366-9 : 40.00 р.
Гриф: допущено УМО по образованию в обл. радиотехники, электроники, биомед. техники и автоматизации в качестве лаб. практикума для студ. вузов, обучающихся по спец. 200800, 220500 и направлениям 551100, 654300.
ГРНТИ
УДК
ББК 32.844.1

Рубрики: Электроника--Микроэлектроника

Кл.слова (ненормированные):
ВАКУУМНЫЕ ЭЛЕКТРОУСТАНОВКИ -- ВАКУУМ -- РЕЗИСТИВНО-ТЕРМИЧЕСКОЕ ИСПАРЕНИЕ -- МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- ТОНКИЕ ПЛЕНКИ -- СВЕРХПРОВОДНИКИ -- ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫЕ СВЕРХПРОВОДНИКИ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ДУГОВОЕ ИСПАРЕНИЕ -- ФОТОЛИТОГРАФИЯ
Аннотация: Представлены практические рекомендации по работе на вакуумных электроустановках. Изложены теоретические основы тонкопленочной микроэлектроники.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.


Доп. точки доступа:
Филимонов, В. Е.
Найти похожие

4.

    Берлин, Е. В.
    Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии [Текст] : справочное издание / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. - М. : Техносфера, 2010. - 528 с. : ил. ; 25 см . - (Мир материалов и технологий). - ISBN 978-5-94836-222-9 : 605.00 р.
ГРНТИ
УДК
ББК 30.61

Рубрики: Обработка материалов--Плазменная обработка

Кл.слова (ненормированные):
ТОНКОПЛЕНОЧНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ -- ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ ПРОЦЕССЫ -- МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- МАГНЕТРОН -- ПЛАЗМА -- ВАКУУМНОЕ НАПЫЛЕНИЕ -- ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ
Аннотация: Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.


Доп. точки доступа:
Сейдман, Л. А.
Найти похожие

5.

    Плешивцев, Н. В.
    Катодное распыление [Текст] : монография / Н. В. Плешивцев. - М. : Атомиздат, 1968. - 343 с. : ил., табл. ; 22 см. - Библиогр.: с. 297-334 (742 назв.). - Предм. указ.: с. 335-339. - 1.73 р.
ГРНТИ
УДК

Рубрики: Физика--Электричество

Кл.слова (ненормированные):
ЭМИТТИРОВАННЫЕ ЧАСТИЦЫ -- КОЭФФИЦИЕНТ РАСПЫЛЕНИЯ -- РАСПЫЛЕНИЕ МОНОКРИСТАЛЛОВ -- КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ
Аннотация: В книге дается обзор экспериментальных и теоретических исследований катодного распыления. Рассмотрены вопросы практического использования этого явления в науке и технике.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.
Найти похожие

 
Авторизация
Фамилия
Пароль
 
Заявка на регистрацию в ЭБС

Возникли проблемы? Пишите на oma@info.sgu.ru
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)