Новые поступления (книга в стадии обработки) Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники [Текст] : в 10 кн. : учебник / С. Н. Никифорова-Денисова, Е. Н. Любушкин. - М. : Высшая школа, 1989 - . Кн. 5 : Термические процессы. - 1989. - 96 с. : ил. ; 20см. - ISBN 5-06-000307-8 : 0.15 р.
Рубрики: Электроника--Полупроводниковая электроника Кл.слова (ненормированные): кремний -- кремниевая пленка -- галогенносодержащие среды -- пиролитическое осаждение SiO2 -- нитрид кремния -- диффузия -- эпитаксиальные пленки -- эпитаксиальное наращивание Аннотация: В книге описаны технологические процессы формирования диэлектрических и поликристаллических кремниевых пленок на поверхности полупроводниковых пластин и эпитаксиального наращивания, приведены режимы обработки, характеристики используемого оборудования, показаны последовательность и особенности выполнения операций, методы контроля параметров процессов и получаемых слоев. Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. Доп. точки доступа: Никифорова-Денисова, С. Н. Любушкин, Е.Н. |
Новые поступления (книга в стадии обработки) Практикум по химии и технологии полупроводников [Текст] : учеб. пособие / под ред. Я. А. Угая. - М. : Высшая школа, 1978. - 191 с. : ил. ; 21 см. - 0.45 р. Гриф: допущено М-вом высш. и сред. спец. образования СССР в качестве учеб. пособия для студ. хим. спец. высш. учеб. заведений
Рубрики: Физика--Полупроводники Кл.слова (ненормированные): ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЙ АНАЛИЗ -- ПОСТРОЕНИЕ ДИАГРАММ -- ВЫРАЩИВАНИЕ КРИСТАЛЛОВ -- ХИМИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ОКИСЛЕНИЕ КРЕМНИЯ -- ЭПИТАКСИАЛЬНОЕ НАРАЩИВАНИЕ Аннотация: В практикуме описаны лабораторные работы по химии и технологии полупроводников. Пособие предназначено для изучения основных методов физико-химического исследования конденсированных систем (ДТА, тензиметрические методы, построение Р-Т-х-диаграмм, методы микроструктурного анализа и миктотвердости, различных методов синтеза, кристаллизационной очистки и выращивания монокристаллов полупроводниковых соединений, а также знакомит с основными технологическими операциями в производстве полупроводниковых приборов (окисление, диффузия, эпитаксия, травление). Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. Доп. точки доступа: Угай, Я. А. |
Новые поступления (книга в стадии обработки) Курносов, Анатолий Иванович. Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем [Текст] : учеб. пособие для ВУЗов / А. И. Курносов, В. В. Юдин. - 3-е изд., перераб. и доп. - Москва : Высшая школа, 1986. - 367 с. - Библиогр.: с. 363. - Предм. указ.: с. 364-365. - 1.30 р. Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника Кл.слова (ненормированные): СВЧ-диапазон -- антимонид галлия -- антимонид индия -- арсенид галлия -- арсенид индия -- германий -- диффузионные структуры -- диэлектрические пленки -- защитные пленки -- имс -- интегральные микросхемы -- интерметаллические соединения -- ионная имплантация -- ионно-плазменное распыление -- конструкции корпусов -- кремний -- лазерные технологии -- нитридные пленки кремния -- полупроводниковые материалы -- полупроводниковые пластины -- полупроводниковые подложки -- пособия для вузов -- р-п-переход -- радиация -- рентгенолитография -- сборка полупроводниковых приборов -- термическое испарение -- тонкие пленки -- фосфид галлия -- фотолитография -- фоторезисторы -- фотошаблоны -- эпитаксиальное наращивание Аннотация: В книге рассмотрены основные технологические процессы производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Держатели документа: Муниципальное учреждение культуры (Централизованная библиотечная система города Саратова) Доп. точки доступа: Юдин, Владимир Васильевич |