Новые поступления (книга в стадии обработки) Мокеев, О. К. Химическая обработка и фотолитография в производстве полупроводниковых приборов и микросхем [Текст] : учебник / О. К. Мокеев. - 2-е изд., перераб. и доп. - М. : Высшая школа, 1985. - 312 с. : ил. ; 20см. - ISBN 4 : 0.60 р.
Рубрики: Электроника--Полупроводниковые приборы--Микроминиатюрные полупроводниковые приборы Кл.слова (ненормированные): фильтры -- фильтрация -- эмульсия -- адсорбция газов -- фотолитография -- ионное травление -- фотошаблоны Аннотация: В книге рассмотрены технологические процессы химической обработки, фотолитогрфии и изготовления фотошаблонов в производстве полупроводниковых приборов и микросхем. Приведены основы теории этих процессов, методы и средства их контроля, оборудование. Во втором издании (1-е - в 1979 г.) описаны сухое травление рабочих материалов, а также методы электронно- и рентгенолитографии. Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. |
Новые поступления (книга в стадии обработки) Данилин, Б. С. Ионное травление микроструктур [Текст] : научное издание / Б. С. Данилин, В. Ю. Киреев. - М. : Советское радио, 1979. - 104 с. : ил. ; 20 см. - (Массовая библиотека инженера "Электроника"). - Библиогр.: с. 95. - 0.30 р.
Рубрики: Электроника--Микроэлектроника Кл.слова (ненормированные): ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ТРИОДНЫЕ СИСТЕМЫ -- ДИОДНЫЕ СИСТЕМЫ -- РАДИАЦИОННЫЕ ДЕФЕКТЫ -- ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПАРАМЕТРЫ -- РАСПЫЛИТЕЛЬНЫЕ УСТРОЙСТВА Аннотация: Рассматривается применение ионного травления в производстве микроэлектронных приборов. Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. Доп. точки доступа: Киреев, В. Ю. |
Новые поступления (книга в стадии обработки) Сушенцов, Н. И. Основы технологии микроэлектроники [Текст] : лаб. практикум / Н. И. Сушенцов, В. Е. Филимонов ; Мар. гос. техн. ун-т (Йошкар-Ола). - 3-е изд., перераб. и доп. - Йошкар-Ола : МарГТУ, 2005. - 184 с. : ил. ; 20 см. - Библиогр.: с. 184 (9 назв.). - ISBN 5-8158-0366-9 : 40.00 р. Гриф: допущено УМО по образованию в обл. радиотехники, электроники, биомед. техники и автоматизации в качестве лаб. практикума для студ. вузов, обучающихся по спец. 200800, 220500 и направлениям 551100, 654300.
Рубрики: Электроника--Микроэлектроника Кл.слова (ненормированные): ВАКУУМНЫЕ ЭЛЕКТРОУСТАНОВКИ -- ВАКУУМ -- РЕЗИСТИВНО-ТЕРМИЧЕСКОЕ ИСПАРЕНИЕ -- МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- ТОНКИЕ ПЛЕНКИ -- СВЕРХПРОВОДНИКИ -- ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫЕ СВЕРХПРОВОДНИКИ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ДУГОВОЕ ИСПАРЕНИЕ -- ФОТОЛИТОГРАФИЯ Аннотация: Представлены практические рекомендации по работе на вакуумных электроустановках. Изложены теоретические основы тонкопленочной микроэлектроники. Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. Доп. точки доступа: Филимонов, В. Е. |
Новые поступления (книга в стадии обработки) Берлин, Е. В. Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии [Текст] : справочное издание / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. - М. : Техносфера, 2010. - 528 с. : ил. ; 25 см . - (Мир материалов и технологий). - ISBN 978-5-94836-222-9 : 605.00 р.
Рубрики: Обработка материалов--Плазменная обработка Кл.слова (ненормированные): ТОНКОПЛЕНОЧНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ -- ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ ПРОЦЕССЫ -- МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- МАГНЕТРОН -- ПЛАЗМА -- ВАКУУМНОЕ НАПЫЛЕНИЕ -- ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ Аннотация: Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения. Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. Доп. точки доступа: Сейдман, Л. А. |
Новые поступления (книга в стадии обработки) Плешивцев, Н. В. Катодное распыление [Текст] : монография / Н. В. Плешивцев. - М. : Атомиздат, 1968. - 343 с. : ил., табл. ; 22 см. - Библиогр.: с. 297-334 (742 назв.). - Предм. указ.: с. 335-339. - 1.73 р.
Рубрики: Физика--Электричество Кл.слова (ненормированные): ЭМИТТИРОВАННЫЕ ЧАСТИЦЫ -- КОЭФФИЦИЕНТ РАСПЫЛЕНИЯ -- РАСПЫЛЕНИЕ МОНОКРИСТАЛЛОВ -- КАТОДНОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ Аннотация: В книге дается обзор экспериментальных и теоретических исследований катодного распыления. Рассмотрены вопросы практического использования этого явления в науке и технике. Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. |