| начало | написать нам | в избранное | сделать стартовой |
ДЛЯ РАБОТЫ С БАЗАМИ ОГРАНИЧЕННОГО ДОСТУПА ТРЕБУЕТСЯ АВТОРИЗАЦИЯ
ДАННАЯ ВЕРСИЯ СИСТЕМЫ НЕ ПОДДЕРЖИВАЕТСЯ!!! БАЗЫ НЕ ОБНОВЛЯЮТСЯ!!! ПОЛЬЗУЙТЕСЬ НОВОЙ ВЕРСИЕЙ ПОИСКОВОЙ СИСТЕМЫ!!! >>>

Базы данных


Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС) - результаты поиска

Виды поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>KL=планаризация<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.

    Абрайтис, Л. Б.
    Автоматизация проектирования топологии цифровых интегральных микросхем. [Текст] / Л.Б.Абрайтис. - М. : Радио и связь, 1985. - 200 с. : ил. ; 20см. - 0.55 р.
ГРНТИ
УДК

Рубрики: Электроника--Микроэлектроника--Интегральные микросхемы

Кл.слова (ненормированные):
электроника -- микроэлектроника -- интегральные микросхемы -- топология -- топология микросхем -- трассировка -- планаризация -- генератор изображения
Аннотация: Приведены алгоритмические методы размещения компонентов и трассировки соединений на кристалле интегральных микросхем.В основном рассмотривается процесс проектирования топологии микросхем на типовых ячейках и матричных БИС.Показана возможность построения системы автоматического проектирования с применением принципа сжатия рисунка топологии.Отдельно рассматривается проектирование планарных схем.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.
Найти похожие

2.

    Пилипенко, В. А.
    Быстрые термообработки в технологии СБИС [Текст] : монография / В. А. Пилипенко. - Минск : Изд. центр БГУ, 2004. - 531 с. : ил. ; 21 см. - Библиогр.: с. 525-527 (30 назв.). - ISBN 985-476-251-3 : 80.00 р.
ГРНТИ
УДК
ББК 32.844.1

Рубрики: Электроника--Микроэлектроника--Интегральные микросхемы

Кл.слова (ненормированные):
электроника -- микроэлектроника -- интегральные микросхемы -- технология СБИС -- быстрые термообработки -- нагрев пластин -- лазерное геттерирование -- ионнолегирированные слои -- эпитаксиальные пленки -- диэлектрические пленки -- планаризация -- дисилицид титана -- кремниевые структуры
Аннотация: Рассмотрены физические процессы, вызывающие нагрев кремниевых пластин в результате их облучения импульсами когерентного и некогерентного света.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.
Найти похожие

 
Авторизация
Фамилия
Пароль
 
Заявка на регистрацию в ЭБС

Возникли проблемы? Пишите на oma@info.sgu.ru
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)