Web ИРБИС


	\| начало \| написать нам \| в избранное \| сделать стартовой \|

ДЛЯ РАБОТЫ С БАЗАМИ ОГРАНИЧЕННОГО ДОСТУПА ТРЕБУЕТСЯ АВТОРИЗАЦИЯ
ДАННАЯ ВЕРСИЯ СИСТЕМЫ НЕ ПОДДЕРЖИВАЕТСЯ!!! БАЗЫ НЕ ОБНОВЛЯЮТСЯ!!! ПОЛЬЗУЙТЕСЬ НОВОЙ ВЕРСИЕЙ ПОИСКОВОЙ СИСТЕМЫ!!! >>>

Базы данных

Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС) - результаты поиска

Виды поиска

Электронный каталог

ЭБС "ЛАНЬ"

ЭБС "ZNANIUM.com" (ИД "ИНФРА-М")

Электронная библиотека

Известные деятели культуры в Саратовской губернии

Работы В. А. Артисевич и литература о ней

Издания вузовских библиотек Среднего и Нижнего Поволжья

Публикации учёных СГУ

Краеведческий обзор

Поступления журналов в ЗНБ СГУ

БД коллекций в фонде ЗНБ СГУ

БД выпускных квалификационных работ

Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС)

Область поиска

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Отсортировать найденные документы по:
автору	заглавию	году издания	типу документа

Поисковый запрос: (<.>KL=эпитаксиальное наращивание<.>)

Общее количество найденных документов : 3
Показаны документы с 1 по 3

Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники [Текст] : в 10 кн. : учебник / С. Н. Никифорова-Денисова, Е. Н. Любушкин. - М. : Высшая школа, 1989 - .
Кн. 5 : Термические процессы. - 1989. - 96 с. : ил. ; 20см. - ISBN 5-06-000307-8 : 0.15 р.

ГРНТИ	47.33.01.33
УДК	621.382.002+621.382.049.77.002(075.32)

ББК 31.233

Рубрики: Электроника--Полупроводниковая электроника

Кл.слова (ненормированные):
кремний -- кремниевая пленка -- галогенносодержащие среды -- пиролитическое осаждение SiO2 -- нитрид кремния -- диффузия -- эпитаксиальные пленки -- эпитаксиальное наращивание
Аннотация: В книге описаны технологические процессы формирования диэлектрических и поликристаллических кремниевых пленок на поверхности полупроводниковых пластин и эпитаксиального наращивания, приведены режимы обработки, характеристики используемого оборудования, показаны последовательность и особенности выполнения операций, методы контроля параметров процессов и получаемых слоев.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.

Доп. точки доступа:
Никифорова-Денисова, С. Н.
Любушкин, Е.Н.
Найти похожие

Практикум по химии и технологии полупроводников [Текст] : учеб. пособие / под ред. Я. А. Угая. - М. : Высшая школа, 1978. - 191 с. : ил. ; 21 см. - 0.45 р.
Гриф: допущено М-вом высш. и сред. спец. образования СССР в качестве учеб. пособия для студ. хим. спец. высш. учеб. заведений

ГРНТИ	29.19.31.01.33
УДК	537.311.322+621.315.592.001(076)

Рубрики: Физика--Полупроводники

Кл.слова (ненормированные):
ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЙ АНАЛИЗ -- ПОСТРОЕНИЕ ДИАГРАММ -- ВЫРАЩИВАНИЕ КРИСТАЛЛОВ -- ХИМИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ОКИСЛЕНИЕ КРЕМНИЯ -- ЭПИТАКСИАЛЬНОЕ НАРАЩИВАНИЕ
Аннотация: В практикуме описаны лабораторные работы по химии и технологии полупроводников. Пособие предназначено для изучения основных методов физико-химического исследования конденсированных систем (ДТА, тензиметрические методы, построение Р-Т-х-диаграмм, методы микроструктурного анализа и миктотвердости, различных методов синтеза, кристаллизационной очистки и выращивания монокристаллов полупроводниковых соединений, а также знакомит с основными технологическими операциями в производстве полупроводниковых приборов (окисление, диффузия, эпитаксия, травление).
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.

Доп. точки доступа:
Угай, Я. А.
Найти похожие

Курносов, Анатолий Иванович.
Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем [Текст] : учеб. пособие для ВУЗов / А. И. Курносов, В. В. Юдин. - 3-е изд., перераб. и доп. - Москва : Высшая школа, 1986. - 367 с. - Библиогр.: с. 363. - Предм. указ.: с. 364-365. - 1.30 р.

ББК 32.852-06

Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника

Кл.слова (ненормированные):
СВЧ-диапазон -- антимонид галлия -- антимонид индия -- арсенид галлия -- арсенид индия -- германий -- диффузионные структуры -- диэлектрические пленки -- защитные пленки -- имс -- интегральные микросхемы -- интерметаллические соединения -- ионная имплантация -- ионно-плазменное распыление -- конструкции корпусов -- кремний -- лазерные технологии -- нитридные пленки кремния -- полупроводниковые материалы -- полупроводниковые пластины -- полупроводниковые подложки -- пособия для вузов -- р-п-переход -- радиация -- рентгенолитография -- сборка полупроводниковых приборов -- термическое испарение -- тонкие пленки -- фосфид галлия -- фотолитография -- фоторезисторы -- фотошаблоны -- эпитаксиальное наращивание
Аннотация: В книге рассмотрены основные технологические процессы производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.
Держатели документа:
Муниципальное учреждение культуры (Централизованная библиотечная система города Саратова)

Доп. точки доступа:
Юдин, Владимир Васильевич
Найти похожие

Стандартный (по одному полю)

По словарю (по одному полю)

Профессиональный (по нескольким полям со словарями)

Распределенный (г. Саратов)

Расширенный

Авторизация

Фамилия

Пароль

Заявка на регистрацию в ЭБС

Возникли проблемы? Пишите на oma@info.sgu.ru

© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)