| начало | написать нам | в избранное | сделать стартовой |
ДЛЯ РАБОТЫ С БАЗАМИ ОГРАНИЧЕННОГО ДОСТУПА ТРЕБУЕТСЯ АВТОРИЗАЦИЯ
ДАННАЯ ВЕРСИЯ СИСТЕМЫ НЕ ПОДДЕРЖИВАЕТСЯ!!! БАЗЫ НЕ ОБНОВЛЯЮТСЯ!!! ПОЛЬЗУЙТЕСЬ НОВОЙ ВЕРСИЕЙ ПОИСКОВОЙ СИСТЕМЫ!!! >>>

Базы данных


Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС) - результаты поиска

Виды поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>KL=полупроводниковые пластины<.>)
Общее количество найденных документов : 4
Показаны документы с 1 по 4
1.

    Бочкин, О. И.
    Механическая обработка полупроводниковых материалов [Текст] : учеб. пособие / О. И. Бочкин, В. А. Брук, С. Н. Никифорова-Денисова, 3-е изд., перераб. и доп. - М. : Высшая школа, 1983. - 112 с. : ил. ; 21см. - (Профтехобразование. Полупроводники). - 0.15 р.
ГРНТИ
УДК
ББК 31.233

Рубрики: Электроника--Полупроводниковые материалы

Кл.слова (ненормированные):
полупроводниковые материалы -- полупроводниковые пластины -- полировка пластин -- калибровка
Аннотация: Описаны технологические процессы обработки полупроводниковых материалов - резка, шлифовка, скрайбирование и разламывание и приведены режимы, а также методы контроля качества и формы получаемых пластин и кристаллов.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.


Доп. точки доступа:
Брук, В. А.
Никифорова-Денисова, С. Н.
Найти похожие

2.

   
    Оборудование полупроводникового производства [Текст] / П. Н. Масленников, К. А. Лаврентьев, А. Д. Гингис. - М. : Радио и связь, 1981. - 336 с. : ил. ; 22см. - 1.50 р.
ГРНТИ
УДК
ББК 32.85

Рубрики: Электроника--Производство полупроводников

Кл.слова (ненормированные):
полупроводниковые пластины -- полупроводниковые приборы -- фотолитография -- кристаллы -- холодная сварка -- электроконтактная сварка -- испытательное оборудование -- интегральные микросхемы -- пылезащитные камеры -- точечные диоды
Аннотация: Описаны конструкции и приведены основные характеристики наиболее широко применяемого оборудования полупроводникового производства, сформулированы требования, предъявляемые к оборудованию, а по основным видам оборудования-практические рекомендации по оперативной проверке исправности его. Изложены основные принципы комплексной механизации и автоматизации в современном полупроводниковом производстве.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.


Доп. точки доступа:
Масленников, П. Н.
Лаврентьев, К. А.
Гингис, А. Д.
Найти похожие

3.

    Хорин, И. А.
    Технологии электронной компонентной базы [Текст] : учеб. пособие / И. А. Хорин. - Саратов : Ай Пи Эр Медиа, 2018. - 280 с. : ил. ; 22 см. - (Университетский учебник). - Библиогр.: с. 275-276 (27 назв.). - ISBN 978-5-4486-0210-8 : 50.00 р.
ГРНТИ
УДК
ББК 32.844

Рубрики: Электроника--Микроэлектроника

Кл.слова (ненормированные):
ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ ПЛАСТИНЫ -- ЛЕГИРОВАНИЕ -- ЛИТОГРАФИЯ -- ТРАВЛЕНИЕ -- ОСАЖДЕНИЕ ПЛЕНОК -- ТЕРМИЧЕСКИЕ ОТЖИГИ -- МИКРОСХЕМЫ -- НАНОСТРУКТУРЫ -- ОПТИЧЕСКАЯ ЛИТОГРАФИЯ -- КРЕМНИЙ -- МИКРОЭЛЕКТРОНИКА -- МОНОКРИСТАЛЛЫ -- МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЕ ПЛЕНКИ -- ЛЕГИРОВАНИЕ -- ЛИТОГРАФИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ -- ТОЛСТОПЛЕНОЧНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ
Аннотация: В учебном пособии рассмотрены ключевые технологии электронной компонентной базы, такие как получение полупроводниковых пластин, легирование, литография, травление, осаждение пленок, быстрые термические отжиги. сборка микросхем. Дан анализ современного состояния и тенденций развития электроники. Особое внимание уделяется получению наноструктур при оптической литографии, технологии "Кремний на изоляторе" и формированию систем многоуровневой металлизации ИС.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.
Найти похожие

4.

    Курносов, Анатолий Иванович.
    Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем [Текст] : учеб. пособие для ВУЗов / А. И. Курносов, В. В. Юдин. - 3-е изд., перераб. и доп. - Москва : Высшая школа, 1986. - 367 с. - Библиогр.: с. 363. - Предм. указ.: с. 364-365. - 1.30 р.
ББК 32.852-06

Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника

Кл.слова (ненормированные):
СВЧ-диапазон -- антимонид галлия -- антимонид индия -- арсенид галлия -- арсенид индия -- германий -- диффузионные структуры -- диэлектрические пленки -- защитные пленки -- имс -- интегральные микросхемы -- интерметаллические соединения -- ионная имплантация -- ионно-плазменное распыление -- конструкции корпусов -- кремний -- лазерные технологии -- нитридные пленки кремния -- полупроводниковые материалы -- полупроводниковые пластины -- полупроводниковые подложки -- пособия для вузов -- р-п-переход -- радиация -- рентгенолитография -- сборка полупроводниковых приборов -- термическое испарение -- тонкие пленки -- фосфид галлия -- фотолитография -- фоторезисторы -- фотошаблоны -- эпитаксиальное наращивание
Аннотация: В книге рассмотрены основные технологические процессы производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.
Держатели документа:
Муниципальное учреждение культуры (Централизованная библиотечная система города Саратова)


Доп. точки доступа:
Юдин, Владимир Васильевич
Найти похожие

 
Авторизация
Фамилия
Пароль
 
Заявка на регистрацию в ЭБС

Возникли проблемы? Пишите на oma@info.sgu.ru
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)