Web ИРБИС


	\| начало \| написать нам \| в избранное \| сделать стартовой \|

ДЛЯ РАБОТЫ С БАЗАМИ ОГРАНИЧЕННОГО ДОСТУПА ТРЕБУЕТСЯ АВТОРИЗАЦИЯ
ДАННАЯ ВЕРСИЯ СИСТЕМЫ НЕ ПОДДЕРЖИВАЕТСЯ!!! БАЗЫ НЕ ОБНОВЛЯЮТСЯ!!! ПОЛЬЗУЙТЕСЬ НОВОЙ ВЕРСИЕЙ ПОИСКОВОЙ СИСТЕМЫ!!! >>>

Базы данных

Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС) - результаты поиска

Виды поиска

Электронный каталог

ЭБС "ЛАНЬ"

ЭБС "ZNANIUM.com" (ИД "ИНФРА-М")

Электронная библиотека

Известные деятели культуры в Саратовской губернии

Работы В. А. Артисевич и литература о ней

Издания вузовских библиотек Среднего и Нижнего Поволжья

Публикации учёных СГУ

Краеведческий обзор

Поступления журналов в ЗНБ СГУ

БД коллекций в фонде ЗНБ СГУ

БД выпускных квалификационных работ

Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС)

Область поиска

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Отсортировать найденные документы по:
автору	заглавию	году издания	типу документа

Поисковый запрос: (<.>KL=магнетронное распыление<.>)

Общее количество найденных документов : 4
Показаны документы с 1 по 4

Физико-химические аспекты технологии микро-и оптоэлектроники [Текст] : межвуз. сб. науч. тр. / отв. ред. Ю. П. Хухрянский ; Воронеж. политехн. ин-т. - Воронеж : ВПИ, 1991. - 133 с. ; 20см. - ISBN 5-230-04430-6 : 2.50 р.

ГРНТИ	47.33.37	47.33.33
УДК	621.382.049.77(06)

Рубрики: Электроника--Оптоэлектроника

Кл.слова (ненормированные):
электроника -- микроэлектроника -- оптоэлектроника -- пленочные структуры -- полупроводники -- диэлектрики -- эпитаксия -- анизотропия -- гетероэпитаксия -- ионная имплантация -- легированные пьезоэлектрики -- тензорезисторы -- магнетронное распыление
Аннотация: Рассмотрены физико-химические процессы формирования пленочных структур на основе полупроводников и диэлектриков.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.

Доп. точки доступа:
Хухрянский, Ю. П.
Найти похожие

Сушенцов, Н. И.
Основы технологии микроэлектроники [Текст] : лаб. практикум / Н. И. Сушенцов, В. Е. Филимонов ; Мар. гос. техн. ун-т (Йошкар-Ола). - 3-е изд., перераб. и доп. - Йошкар-Ола : МарГТУ, 2005. - 184 с. : ил. ; 20 см. - Библиогр.: с. 184 (9 назв.). - ISBN 5-8158-0366-9 : 40.00 р.
Гриф: допущено УМО по образованию в обл. радиотехники, электроники, биомед. техники и автоматизации в качестве лаб. практикума для студ. вузов, обучающихся по спец. 200800, 220500 и направлениям 551100, 654300.

ГРНТИ	47.33.31.01.33
УДК	621.382.049.77(076)

ББК 32.844.1

Рубрики: Электроника--Микроэлектроника

Кл.слова (ненормированные):
ВАКУУМНЫЕ ЭЛЕКТРОУСТАНОВКИ -- ВАКУУМ -- РЕЗИСТИВНО-ТЕРМИЧЕСКОЕ ИСПАРЕНИЕ -- МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- ТОНКИЕ ПЛЕНКИ -- СВЕРХПРОВОДНИКИ -- ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНЫЕ СВЕРХПРОВОДНИКИ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ДУГОВОЕ ИСПАРЕНИЕ -- ФОТОЛИТОГРАФИЯ
Аннотация: Представлены практические рекомендации по работе на вакуумных электроустановках. Изложены теоретические основы тонкопленочной микроэлектроники.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.

Доп. точки доступа:
Филимонов, В. Е.
Найти похожие

Берлин, Е. В.
Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии [Текст] : справочное издание / Е. В. Берлин, Л. А. Сейдман. - М. : Техносфера, 2010. - 528 с. : ил. ; 25 см . - (Мир материалов и технологий). - ISBN 978-5-94836-222-9 : 605.00 р.

ГРНТИ	55.21.01.33
УДК	621.7/9(083)

ББК 30.61

Рубрики: Обработка материалов--Плазменная обработка

Кл.слова (ненормированные):
ТОНКОПЛЕНОЧНАЯ ТЕХНОЛОГИЯ -- ИОННО-ПЛАЗМЕННЫЕ ПРОЦЕССЫ -- МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ -- МАГНЕТРОН -- ПЛАЗМА -- ВАКУУМНОЕ НАПЫЛЕНИЕ -- ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЕ ТРАВЛЕНИЕ -- ИОННОЕ ТРАВЛЕНИЕ
Аннотация: Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения.
Держатели документа:
Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А.

Доп. точки доступа:
Сейдман, Л. А.
Найти похожие

Практикум по волновой электронике и микроэлектронике [Текст] : технология микроэлектроники. . Часть 3 / Саратовский государственный университет им. Н. Г. Чернышевского ; ред.: Ю. В. Гуляев, Н. И. Синицын. - Саратов : Издательство Саратовского национального государственного университета имени Н. Г. Чернышевского, 2000. - 62 с. - ISBN 5-292-02569-0 : 6.00 р.

ББК 32.85я73

Рубрики: Радиоэлектроника--Электроника

Кл.слова (ненормированные):
алюминий -- вакуум -- вакуумные схемы -- волновая электроника -- интегральные схемы -- кремнийсодержащие материалы -- магнетронное распыление -- микроэлектроника -- оксид алюминия -- оксиды -- плазма -- плазменное распыление -- пленки -- свч -- свч-плазма -- сложные структуры -- травление -- физико-химические методы
Аннотация: Представлены работы связанные с изучением особенностей плазмохимической технологии травления кремнийсодержащих материалов
Держатели документа:
Муниципальное учреждение культуры (Централизованная библиотечная система города Саратова)

Доп. точки доступа:
Буянова, З. И.
Захарченко, Ю. Ф.
Князев, С. А.
Синицын, Н. И.
Гуляев, Ю. В.
Синицын, Н. И.
Найти похожие

Стандартный (по одному полю)

По словарю (по одному полю)

Профессиональный (по нескольким полям со словарями)

Распределенный (г. Саратов)

Расширенный

Авторизация

Фамилия

Пароль

Заявка на регистрацию в ЭБС

Возникли проблемы? Пишите на oma@info.sgu.ru

© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)