Web ИРБИС


	\| начало \| написать нам \| в избранное \| сделать стартовой \|

ДЛЯ РАБОТЫ С БАЗАМИ ОГРАНИЧЕННОГО ДОСТУПА ТРЕБУЕТСЯ АВТОРИЗАЦИЯ
ДАННАЯ ВЕРСИЯ СИСТЕМЫ НЕ ПОДДЕРЖИВАЕТСЯ!!! БАЗЫ НЕ ОБНОВЛЯЮТСЯ!!! ПОЛЬЗУЙТЕСЬ НОВОЙ ВЕРСИЕЙ ПОИСКОВОЙ СИСТЕМЫ!!! >>>

Базы данных

Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС) - результаты поиска

Виды поиска

Электронный каталог

ЭБС "ЛАНЬ"

ЭБС "ZNANIUM.com" (ИД "ИНФРА-М")

Электронная библиотека

Известные деятели культуры в Саратовской губернии

Работы В. А. Артисевич и литература о ней

Издания вузовских библиотек Среднего и Нижнего Поволжья

Публикации учёных СГУ

Краеведческий обзор

Поступления журналов в ЗНБ СГУ

БД коллекций в фонде ЗНБ СГУ

БД выпускных квалификационных работ

Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС)

Область поиска

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Отсортировать найденные документы по:
автору	заглавию	году издания	типу документа

Поисковый запрос: (<.>KL=магнетронное распыление<.>)

Общее количество найденных документов : 4
Показаны документы с 1 по 4

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 621.382/Ф 50
Заглавие : Физико-химические аспекты технологии микро-и оптоэлектроники : Межвуз. сб. науч. тр.
Выходные данные : Воронеж: ВПИ, 1991
Колич.характеристики :133 с. ; 20см
ISBN, Цена 5-230-04430-6: 2.50 р.
ГРНТИ : 47.33.37 + 47.33.33
УДК : 621.382.049.77(06)
Предметные рубрики: Электроника-- Оптоэлектроника
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): электроника--микроэлектроника--оптоэлектроника--пленочные структуры--полупроводники--диэлектрики--эпитаксия--анизотропия--гетероэпитаксия--ионная имплантация--легированные пьезоэлектрики--тензорезисторы--магнетронное распыление
Аннотация: Рассмотрены физико-химические процессы формирования пленочных структур на основе полупроводников и диэлектриков.
Найти похожие

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 621.382(076)/С 91
Автор(ы) : Сушенцов Н. И., Филимонов В. Е.
Заглавие : Основы технологии микроэлектроники : лаб. практикум . -3-е изд., перераб. и доп.
Выходные данные : Йошкар-Ола: МарГТУ, 2005
Колич.характеристики :184 с.: ил.; 20 см
Коллективы : Мар. гос. техн. ун-т (Йошкар-Ола), Федер. агентство по образованию (Москва), М-во образования и науки РФ (Москва)
Примечания : Библиогр.: с. 184 (9 назв.). - Гриф: допущено УМО по образованию в обл. радиотехники, электроники, биомед. техники и автоматизации в качестве лаб. практикума для студ. вузов, обучающихся по спец. 200800, 220500 и направлениям 551100, 654300.
ISBN, Цена 5-8158-0366-9: 40.00 р.
ГРНТИ : 47.33.31.01.33
УДК : 621.382.049.77(076)
ББК : 32.844.1
Предметные рубрики: Электроника-- Микроэлектроника
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): вакуумные электроустановки--вакуум--резистивно-термическое испарение--магнетронное распыление--тонкие пленки--сверхпроводники--высокотемпературные сверхпроводники--ионное травление--дуговое испарение--фотолитография
Аннотация: Представлены практические рекомендации по работе на вакуумных электроустановках. Изложены теоретические основы тонкопленочной микроэлектроники.
Найти похожие

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 621.7/9(083)/Б 49
Автор(ы) : Берлин Е. В., Сейдман Л. А.
Заглавие : Ионно-плазменные процессы в тонкопленочной технологии : справочное издание
Выходные данные : М.: Техносфера, 2010
Колич.характеристики :528 с.: ил.; 25 см
Серия: Мир материалов и технологий
ISBN, Цена 978-5-94836-222-9: 605.00 р.
ГРНТИ : 55.21.01.33
УДК : 621.7/9(083)
ББК : 30.61
Предметные рубрики: Обработка материалов-- Плазменная обработка
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): тонкопленочная технология--ионно-плазменные процессы--магнетронное распыление--магнетрон--плазма--вакуумное напыление--плазмохимическое травление--ионное травление
Аннотация: Книга содержит подробное описание магнетронных напылительных установок и плазмохимических установок для травления тонких пленок. Рассмотрены технологические особенности их использования. Описаны способы управления процессами реактивного нанесения тонких пленок и использования среднечастотных импульсных источников питания. Показаны технологические особенности получения тонких пленок тройных химических соединений методом реактивного магнетронного сораспыления. Описана структура получаемых пленок и ее зависимость от параметров процесса нанесения.
Найти похожие

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 32.85я73
Автор(ы) : Буянова З. И., Захарченко Ю. Ф., Князев С. А., Синицын Н. И.
Заглавие : Практикум по волновой электронике и микроэлектронике : Технология микроэлектроники. Часть 3
Выходные данные : Саратов: Издательство Саратовского национального государственного университета имени Н. Г. Чернышевского, 2000
Колич.характеристики :62 с
Коллективы : Саратовский государственный университет им. Н. Г. Чернышевского
ISBN, Цена 5-292-02569-0: 6.00 р.
ББК : 32.85я73
Предметные рубрики: Радиоэлектроника-- Электроника
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): алюминий--вакуум--вакуумные схемы--волновая электроника--интегральные схемы--кремнийсодержащие материалы--магнетронное распыление--микроэлектроника--оксид алюминия--оксиды--плазма--плазменное распыление--пленки--свч--свч-плазма--сложные структуры--травление--физико-химические методы
Аннотация: Представлены работы связанные с изучением особенностей плазмохимической технологии травления кремнийсодержащих материалов
Найти похожие

Стандартный (по одному полю)

По словарю (по одному полю)

Профессиональный (по нескольким полям со словарями)

Распределенный (г. Саратов)

Расширенный

Авторизация

Фамилия

Пароль

Заявка на регистрацию в ЭБС

Возникли проблемы? Пишите на oma@info.sgu.ru

© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)