Web ИРБИС


	\| начало \| написать нам \| в избранное \| сделать стартовой \|

ДЛЯ РАБОТЫ С БАЗАМИ ОГРАНИЧЕННОГО ДОСТУПА ТРЕБУЕТСЯ АВТОРИЗАЦИЯ
ДАННАЯ ВЕРСИЯ СИСТЕМЫ НЕ ПОДДЕРЖИВАЕТСЯ!!! БАЗЫ НЕ ОБНОВЛЯЮТСЯ!!! ПОЛЬЗУЙТЕСЬ НОВОЙ ВЕРСИЕЙ ПОИСКОВОЙ СИСТЕМЫ!!! >>>

Базы данных

Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС) - результаты поиска

Виды поиска

Электронный каталог

ЭБС "ЛАНЬ"

ЭБС "ZNANIUM.com" (ИД "ИНФРА-М")

Электронная библиотека

Известные деятели культуры в Саратовской губернии

Работы В. А. Артисевич и литература о ней

Издания вузовских библиотек Среднего и Нижнего Поволжья

Публикации учёных СГУ

Краеведческий обзор

Поступления журналов в ЗНБ СГУ

БД коллекций в фонде ЗНБ СГУ

БД выпускных квалификационных работ

Сводный каталог библиотек (СГУ, СГТУ, ЦБС)

Область поиска

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Отсортировать найденные документы по:
автору	заглавию	году издания	типу документа

Поисковый запрос: (<.>KL=ЭПИТАКСИАЛЬНОЕ НАРАЩИВАНИЕ<.>)

Общее количество найденных документов : 3
Показаны документы с 1 по 3

Вид документа : Продолжающееся издание
Шифр издания : 621.382(075)/Т 38
Автор(ы) :
Заглавие : Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники: в 10 кн. : учебник/ С. Н. Никифорова-Денисова, Е. Н. Любушкин. Кн. 5: Термические процессы
Выходные данные : М.: Высшая школа, 1989
Колич.характеристики :96 с.: ил.; 20см
ISBN, Цена 5-06-000307-8: 0.15 р.
ГРНТИ : 47.33.01.33
УДК : 621.382.002+621.382.049.77.002(075.32)
ББК : 31.233
Предметные рубрики: Электроника-- Полупроводниковая электроника
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): кремний--кремниевая пленка--галогенносодержащие среды--пиролитическое осаждение sio2--нитрид кремния--диффузия--эпитаксиальные пленки--эпитаксиальное наращивание
Аннотация: В книге описаны технологические процессы формирования диэлектрических и поликристаллических кремниевых пленок на поверхности полупроводниковых пластин и эпитаксиального наращивания, приведены режимы обработки, характеристики используемого оборудования, показаны последовательность и особенности выполнения операций, методы контроля параметров процессов и получаемых слоев.
Найти похожие

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 537(076)/П 69
Заглавие : Практикум по химии и технологии полупроводников : учеб. пособие
Выходные данные : М.: Высшая школа, 1978
Колич.характеристики :191 с.: ил.; 21 см
Примечания : Гриф: допущено М-вом высш. и сред. спец. образования СССР в качестве учеб. пособия для студ. хим. спец. высш. учеб. заведений
Цена : 0.45 р.
ГРНТИ : 29.19.31.01.33
УДК : 537.311.322+621.315.592.001(076)
Предметные рубрики: Физика-- Полупроводники
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): физико-химический анализ--построение диаграмм--выращивание кристаллов--химическое травление--окисление кремния--эпитаксиальное наращивание
Аннотация: В практикуме описаны лабораторные работы по химии и технологии полупроводников. Пособие предназначено для изучения основных методов физико-химического исследования конденсированных систем (ДТА, тензиметрические методы, построение Р-Т-х-диаграмм, методы микроструктурного анализа и миктотвердости, различных методов синтеза, кристаллизационной очистки и выращивания монокристаллов полупроводниковых соединений, а также знакомит с основными технологическими операциями в производстве полупроводниковых приборов (окисление, диффузия, эпитаксия, травление).
Найти похожие

Вид документа : Однотомное издание
Шифр издания : 32.852-06
Автор(ы) : Курносов, Анатолий Иванович, Юдин, Владимир Васильевич
Заглавие : Технология производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем : учеб. пособие для ВУЗов . -3-е изд., перераб. и доп.
Выходные данные : Москва: Высшая школа, 1986
Колич.характеристики :367 с
Примечания : Библиогр.: с. 363. - Предм. указ.: с. 364-365
Цена : 1.30 р.
ББК : 32.852-06
Предметные рубрики: Радиоэлектроника-- Электроника
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): свч-диапазон--антимонид галлия--антимонид индия--арсенид галлия--арсенид индия--германий--диффузионные структуры--диэлектрические пленки--защитные пленки--имс--интегральные микросхемы--интерметаллические соединения--ионная имплантация--ионно-плазменное распыление--конструкции корпусов--кремний--лазерные технологии--нитридные пленки кремния--полупроводниковые материалы--полупроводниковые пластины--полупроводниковые подложки--пособия для вузов--р-п-переход--радиация--рентгенолитография--сборка полупроводниковых приборов--термическое испарение--тонкие пленки--фосфид галлия--фотолитография--фоторезисторы--фотошаблоны--эпитаксиальное наращивание
Аннотация: В книге рассмотрены основные технологические процессы производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем.
Найти похожие

Стандартный (по одному полю)

По словарю (по одному полю)

Профессиональный (по нескольким полям со словарями)

Распределенный (г. Саратов)

Расширенный

Авторизация

Фамилия

Пароль

Заявка на регистрацию в ЭБС

Возникли проблемы? Пишите на oma@info.sgu.ru

© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)