Вид документа : Однотомное издание Шифр издания : 621.382/П 37 Заглавие : Плазменная технология в производстве СБИС Выходные данные : М.: Мир, 1987 Колич.характеристики :469 с.: ил.; 22см Примечания : Библиогр.: с. 461. - Пред.-имен. указ. с.: 463 Цена : 3.40,38.00 р. ГРНТИ : 47.33.31 УДК : 621.382.049.771.14.002:621.7/9.048.7 ББК : 31.233 Предметные рубрики: Электроника-- Интегральные микросхемы-- СБИС Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): диффузионный барьер--силициды--металлизация затвора--травление--параметры--интегральные микросхемы--сбис--осаждение--литография--ионно-плазменные методы--флюоресценция--излучение--лазер--масс-спектрометрия--механизм травления--оптическая литография Аннотация: Рассмотрены вопросы физики,химии и технологии применения плазменной обработки в производстве СБИС.Книга является своеобразной энциклопедией по физике и химии процессов осаждения,литографии и травления с применением ионно-плазменных методов. Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. Доп. точки доступа: Айнспрук, Н. Браун, Д. Золотарев, Ю. М. Юдин, В. В.