Новые поступления (книга в стадии обработки) Физико-химические основы надежности микроэлектронных структур [Текст] : межвуз. сб. науч. тр. / Воронежский политехн. ин-т. - Воронеж : ВПИ, 1987. - 91 с. : ил. ; 28 см. - Библиогр. в конце ст. - 0.70 р.
Рубрики: Электроника--Микроэлектроника Кл.слова (ненормированные): ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЕ МАТЕРИАЛЫ -- ИНТЕГРАЛЬНЫЕ СХЕМЫ -- АМОРФНЫЙ КРЕМНИЙ -- ТВЕРДОТЕЛЫЕ СТРУКТУРЫ -- ИМПЛАНТИРОВАННЫЕ СЛОИ Аннотация: Представлены результаты анализа физико-химических процессов деградации полупроводниковых материалов, интегральных схем и элементов их конструкции. Рассмотрено влияние технологических факторов и внешних воздействий на физические свойства структур, изготовленных с использованием монокристаллического, поликристаллического и аморфного кремния. Держатели документа: Саратовский государственный технический университет им. Гагарина Ю. А. |