Представлены результаты измерений параметров материалов и структур с использованием частотных зависимостей коэффициентов отражения электромагнитной волны СВЧ-диапазона. Показана возможность решения обратной задачи по определению толщины и электропроводности нанометровых металлических пленок и полупроводниковых слоев в многослойных структурах в широком диапазоне их значений. Решена задача одновременного определения этихпараметров при различных температурах.

The results of measurements of parameters of materials and structures with utilization of microwave reflection spectra are presented. The possibility of the inverse problem solving to determine the thickness and electrical conductivity of nanometer metal films and semiconductor layers in multilayer structures in a wide range of their values has been shown. The problem of simultaneous determining both these parameters at the different temperatures has been solved.